一种砖体的均匀上釉的上釉装置

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专利状态

一种砖体的均匀上釉的上釉装置

有效

专利申请进度

申请

2020-12-16

授权

2021-11-23

预估到期

2030-12-16

专利基础信息

申请号	CN202023035418.6	申请日	2020-12-16
授权公布号	CN214819482U	授权公告日	2021-11-23
分类号	B28B11/04
分类	加工水泥、黏土或石料;
申请人名称	佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司
申请人地址	广东省佛山市禅城区石湾镇跃进路2号B座十层

专利法律状态

2021-11-23

授权

状态信息

授权

摘要

一种砖体的均匀上釉的上釉装置，包括：第一传送结构、第二传送结构和上釉组件；第一传送结构和第二传送结构用于传送砖体，两者相向设置，两者之间设置有上釉组件；上釉主动辊和上釉从动辊可转动地安装于储釉容器内，储釉容器用于储存表面釉；两个上釉从动辊水平相靠或成间隙设置，上釉主动辊分别接触于两侧的上釉从动辊，上釉主动辊用于接触经过于第一传送结构和第二传送结构之间的砖体；上釉驱动器用于驱动上釉主动辊和/或上釉从动辊转动。本上釉装置，均匀地对经过于第一传送结构和第二传送结构两者之间的砖体进行上釉，上釉主动辊和上釉从动辊两者共同配合，上釉主动辊对砖体均匀上釉，使砖体表面形成的表面釉更均匀。

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