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专利状态
一种双重曝光合成HDR图像的方法和装置
有效
专利申请进度
申请
2017-08-16
申请公布
2019-03-01
授权
2020-12-18
预估到期
2037-08-16
专利基础信息
申请号 CN201710703911.4 申请日 2017-08-16
申请公布号 CN109413335A 申请公布日 2019-03-01
授权公布号 CN109413335B 授权公告日 2020-12-18
分类号 H04N5/235;H04N5/232;H04N5/265
分类 电通信技术;
申请人名称 瑞芯微电子股份有限公司
申请人地址 福建省福州市鼓楼区软件大道89号18号楼
专利法律状态
  • 2020-12-18
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-12-01
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):H04N5/235;专利申请号:2017107039114;变更事项:申请人;变更前:福州瑞芯微电子股份有限公司;变更后:瑞芯微电子股份有限公司;变更事项:地址;变更前:350003 福建省福州市鼓楼区软件大道89号18号楼;变更后:350003 福建省福州市鼓楼区软件大道89号18号楼
  • 2019-03-26
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):H04N5/235;专利申请号:2017107039114;申请日:20170816
  • 2019-03-01
    发明专利申请公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开一种双重曝光合成HDR图像的方法和装置,所述方法包括以下步骤:接收第一控制命令,采用第一曝光方案对第一图像进行第一曝光,得到第一曝光图像,以及采用第二曝光方案对第一图像进行第二曝光,得到第二曝光图像;所述第一曝光方案和第二曝光方案交替进行,且交替频率符合一预设频率;对第一曝光图像和第二曝光图像进行缓存;接收第二控制命令,对第一曝光图像和第二曝光图像采用HDR算法合成高动态范围的HDR图像。在相机进行预览操作时,就对第一处理图像进行处理得到第一曝光图像,当进行图像生成操作时,可以将第一曝光图像与第二曝光图像直接进行合成,有效提高了图像生成效率,提高了用户的感官体验。