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专利状态
基于探测器温度的多点非均匀校正的方法
有效
专利申请进度
申请
2019-08-28
申请公布
2019-12-20
授权
2020-08-28
预估到期
2039-08-28
专利基础信息
申请号 CN201910802663.8 申请日 2019-08-28
申请公布号 CN110595630A 申请公布日 2019-12-20
授权公布号 CN110595630B 授权公告日 2020-08-28
分类号 G01J5/10
分类 测量;测试;
申请人名称 武汉华中数控股份有限公司
申请人地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区庙山小区华中科技大学科技园
专利法律状态
  • 2020-08-28
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-01-14
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):G01J5/10
  • 2019-12-20
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供了一种基于探测器温度的多点非均匀校正的方法,包括以下步骤:在探测器工作温度范围内采集多幅均匀的背景图像,保存各背景图像的本底信息,并记录对应的探测器温度AD值;根据采集的各背景图像的本底信息以及对应的探测器温度AD值拟合探测器当前温度下的本底;将探测器依次稳定在多个不同的温度点,在各温度点下分别采集高温背景和低温背景,计算探测器不同温度点对应的增益,并保存增益数据,同时保存对应的探测器温度AD值;利用探测器不同温度点对应的增益拟合探测器当前温度对应的增益;利用探测器当前温度下的本底以及探测器当前温度对应的增益,对红外图像进行校正。本发明无需打快门,节约生产成本,且能够自适应的校正红外图像。