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专利状态
一种双面冷转移印花设备
有效
专利申请进度
申请
2021-07-20
申请公布
2021-09-17
授权
2022-12-30
预估到期
2041-07-20
专利基础信息
申请号 CN202110820853.X 申请日 2021-07-20
申请公布号 CN113400781A 申请公布日 2021-09-17
授权公布号 CN113400781B 授权公告日 2022-12-30
分类号 B41F16/02;B41F16/00;B41F23/04;B65H16/10;B65H18/10;B65H23/06
分类 印刷;排版机;打字机;模印机〔4〕;
申请人名称 西安航天华阳机电装备有限公司
申请人地址 陕西省西安市长安区神舟二路147幢
专利法律状态
  • 2022-12-30
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-09-17
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种双面冷转移印花设备,用于将图案转移到纺织物表面,包括依次设置的放料架、双辊扩幅部、对中单元、浸浆机构、转移印花部、循环烘干机构、落布机构;循环烘干机构包括依次设置的第一导辊组件、烘干机构、第二导辊组件,浸浆机构包括浆槽单元、轧车单元浆槽单元内设置有导料辊。属于常温状态下转移印花,其耗能相对于热转移印花可降低67%左右;利用采用无污染环保水性油墨印刷的转移膜替代油墨进行转移,转移印花后可回收重新处理二次利用,完全符合国家的环保要求;提高了背面转移印花的效率。