一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法

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专利状态

一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法

失效

专利申请进度

申请

2002-08-23

申请公布

2003-09-03

授权

2021-05-25

预估到期

2022-08-23

专利基础信息

申请号	CN02136615.2	申请日	2002-08-23
申请公布号	CN1439452A	申请公布日	2003-09-03
授权公布号	CN1229173C	授权公告日	2021-05-25
分类号	B01F17/54
分类	一般的物理或化学的方法或装置;
申请人名称	上海制皂有限公司
申请人地址	上海市杨树浦路2310号

专利法律状态

2021-05-25

授权

状态信息

授权
2016-10-19

专利权的终止

状态信息

未缴年费专利权终止；IPC(主分类):B01F 17/54；申请日:20020823；授权公告日:20051130；终止日期:20150823
2005-11-30

发明专利权授予

状态信息

授权
2003-11-19

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效
2003-09-03

发明专利申请公布

状态信息

公布

摘要

一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法，其结构通式如下：∴m＝10-2000，n＝1-200R＝CH₂CH₂CH₂NHZ或CH₂NHCH₂CH₂NHZ或CH₂CH₂CH₂NHCH₂CH₂NHZ或(CH₂)₃NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NHZZ＝CH₂CHOHCH₂SO₃M或C₂H₄SO₃M或CH₂CHOHCH₂OPO₃M或CH₂CH₂CH₂SO₃MM＝Na，K，NH₄该有机硅阴离子表面活性剂合成方法为：合成氨烃基聚硅氧烷，经缩合反应将氨烃基聚硅氧烷引入亲水基。本发明的优点是所用的原料易得，价格低廉，反应条件简单易行，收率较高，易于工业化生产。该表面活性剂具有乳化，分散，润湿，抗静电，消泡，稳泡，起泡，柔软、滑爽等性能，可用于日化、食品、生物工程、轻工、纺织、石油化工、电子、医药、农药等领域。

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