一种平台装置及应用其的数码喷印系统

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专利状态

一种平台装置及应用其的数码喷印系统

有效

专利申请进度

申请

2016-05-11

授权

2016-11-30

预估到期

2026-05-11

专利基础信息

申请号	CN201620421365.6	申请日	2016-05-11
授权公布号	CN205736452U	授权公告日	2016-11-30
分类号	B41J11/00;B41J2/01
分类	印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕;
申请人名称	上海泰威技术发展股份有限公司
申请人地址	上海市徐汇区虹桥路628号

专利法律状态

2016-11-30

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及数码喷印领域，公开了一种平台装置及应用其的数码喷印系统。本实用新型提供的平台装置包含：平台本体，具有相对的外表面与内表面，以及贯穿外表面与内表面的多个吸风孔，外表面用于放置喷印底材；真空框体，设置于平台本体，真空框体与平台本体的内表面形成真空腔体；抽真空组件，包含真空泵与真空吸管，真空吸管的一端连通于真空腔体，另一端连接于真空泵，其中，真空泵将真空腔体抽真空，喷印底材受多个吸风孔吸附而定位于平台本体的外表面。从而，包含本实用新型所述平台装置的数码喷印系统所喷印出的作品将具有更高的喷印精度。

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