双栅MOS结构的功率晶体管_专利查询-品牌网

热门行业
装修建材
家居生活
餐饮食品
母婴教育
电脑办公
服装首饰
汽车工具
家电数码
机械化工
休闲美容

热门行业

教育培训
板材
地板
涂料
家纺
集成吊顶
美缝剂
木门
硅藻泥
管材
指纹锁
橱柜
衣柜
床垫
电热水器
集成灶
暖气片
净水器
酒店
卫浴

返回上一页

专利状态

双栅MOS结构的功率晶体管

有效

专利申请进度

申请

2014-03-24

授权

2014-08-13

预估到期

2024-03-24

专利基础信息

申请号	CN201420134117.4	申请日	2014-03-24
授权公布号	CN203774335U	授权公告日	2014-08-13
分类号	H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/28
分类	基本电气元件;
申请人名称	江苏宏微科技股份有限公司
申请人地址	江苏省常州市新北区华山中路18号

专利法律状态

2014-08-13

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种双栅MOS结构的功率晶体管，栅氧化层位于第一掺杂层上，第二掺杂层位于第一掺杂层内并与栅氧化层相连，第三掺杂层位于第二掺杂层内并与栅氧化层相连，绝缘介质层覆在有源区原胞的多晶硅层上，金属层覆在绝缘介质层上并延伸至有源区原胞的引线孔内与第三掺杂层和第二掺杂层相接导通，有源区原胞的多晶硅层包括由绝缘介质层隔离、且相互不连接的第一多晶硅栅和第二多晶硅栅，第一多晶硅栅和第二多晶硅栅分别通过各自金属引线连接到各自对应的栅极焊接区域，以分别控制第一多晶硅栅和第二多晶硅栅。本实用新型结构简单，将多晶硅层分割成两个能分别控制的多晶硅栅，能灵活控制电流沟道密度，使器件达到最佳性能状态。

更多专利

全国服务热线：

在线客服

1211389656 咨询

商务合作

85926368 咨询

媒体合作

921888730 咨询

在线客服
客服微信号

品牌网官方客服微信

打开微信扫一扫

客服微信
商务合作微信

商务合作详谈

打开微信扫一扫

商务合作
回到顶部

在线客服

商务合作

媒体合作

客服微信号

商务合作微信