衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法

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专利状态

衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法

有效

专利申请进度

申请

2021-12-03

申请公布

2022-03-04

授权

2023-10-24

预估到期

2041-12-03

专利基础信息

申请号	CN202111465867.0	申请日	2021-12-03
申请公布号	CN114137645A	申请公布日	2022-03-04
授权公布号	CN114137645B	授权公告日	2023-10-24
分类号	G02B5/18;G02B27/00
分类	光学;
申请人名称	浙江水晶光电科技股份有限公司
申请人地址	浙江省台州市椒江区星星电子产业区A5号（洪家后高桥村）

专利法律状态

2023-10-24

授权

状态信息

授权
2022-03-04

公布

状态信息

公布

摘要

本申请提供一种衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法，涉及衍射光学技术领域，包括提供一透明基底；在透明基底的一侧表面通过第一母版形成第一光栅结构层；在形成有第一光栅结构层的透明基底上通过第二母版形成第二光栅结构层，其中，第一母版上的第一预设衍射图案和第二母版上的第二预设衍射图案不同，第一光栅结构层和第二光栅结构层中的至少一层为一维光栅结构层。第一光栅结构层和第二光栅结构层各自产生的点阵结合，形成预设的阵列点阵。采用双层光栅结构层后，分解后的点阵具备点阵少、形状规则等特征，大大降低了衍射光学元件设计与加工难度，获得高性能光束分束，保持二维点阵有较好的分束均匀性。

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