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专利状态
GIS屏蔽件和镀银导体喷漆工艺
有效
专利申请进度
申请
2017-12-05
申请公布
2018-04-13
授权
2021-02-05
预估到期
2037-12-05
专利基础信息
申请号 CN201711265005.7 申请日 2017-12-05
申请公布号 CN107899924A 申请公布日 2018-04-13
授权公布号 CN107899924B 授权公告日 2021-02-05
分类号 B05D7/14;
分类 一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
申请人名称 上海思源高压开关有限公司
申请人地址 上海市闵行区华宁路3399号
专利法律状态
  • 2021-02-05
    授权
    状态信息
    授权
  • 2018-05-08
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效
  • 2018-04-13
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明属于GIS开关设备领域,具体涉及GIS屏蔽件和镀银导体喷漆工艺,包括喷漆前处理、喷漆处理和喷漆后处理,其中喷漆前处理工艺包括依次进行的喷砂前遮蔽、喷砂、防氧化、清洗烘干、喷漆前遮蔽;喷漆工艺包括喷漆和喷漆后烘干;喷漆后处理包括漆面附着力检测、漆面修补、去遮蔽、打磨抛光、清洁和包装工序。通过该喷漆工艺处理后的屏蔽件和镀银导体的表面更光滑,电场均匀性更好,大大减少GIS产品放电,无需扩大壳体、导体和屏蔽件的直径,使GIS产品小型化,降低GIS制造成本。且本发明该喷漆工艺简单,易操作成型,产品质量高。