真空腔室的密封结构_专利查询-品牌网

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专利状态

真空腔室的密封结构

有效

专利申请进度

申请

2019-09-05

授权

2020-05-22

预估到期

2029-09-05

专利基础信息

申请号	CN201921475113.1	申请日	2019-09-05
授权公布号	CN210600478U	授权公告日	2020-05-22
分类号	F16L5/10
分类	工程元件或部件；为产生和保持机器或设备的有效运行的一般措施；一般绝热;
申请人名称	深圳市深科达智能装备股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市宝安区福永街道征程二路2号A栋、B栋第一至三层、C栋第一层、D栋

专利法律状态

2020-05-22

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及密封结构的技术领域，公开了真空腔室的密封结构，包括具有真空腔室的腔体以及用于穿设线缆的穿线件；腔体的侧壁具有通孔，通孔连通真空腔室；穿线件插设在通孔中，穿线件上套设有第一密封圈，第一密封圈密封通孔与穿线件的外周之间的间隙；穿线件具有穿线孔，穿线孔连通真空腔室及腔体的外部；线缆穿过穿线孔，线缆上套设有第二密封圈，第二密封圈密封穿线孔与线缆之间的间隙；第一密封圈密封通孔与穿线件外周之间的间隙第二密封圈密封穿线孔与线缆之间的间隙；通过密封结构实现对真空腔室的密封作用，使得线缆不需要剪断也可以穿过腔体与外部连接，密封性能良好，方便实用。

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