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专利状态

清洁装置

有效

专利申请进度

申请

2020-08-13

授权

2021-06-08

预估到期

2030-08-13

专利基础信息

申请号	CN202021707467.7	申请日	2020-08-13
授权公布号	CN213378018U	授权公告日	2021-06-08
分类号	B08B1/02;B08B5/02;B08B13/00;H05F3/06
分类	清洁;
申请人名称	深圳市深科达智能装备股份有限公司
申请人地址	广东省深圳市宝安区福永街道征程二路2号A栋、B栋第一至三层、C栋第一层、D栋

专利法律状态

2021-06-08

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及物料清洁的技术领域，公开了清洁装置，包括安装壳体和清洁组件，安装壳体内设有安装板，清洁组件安装在安装板上；清洁组件包括下压气缸和等离子装置，通过下压气缸驱动等离子装置上下移动，等离子装置将喷出气体对物料进行清洁；安装壳体上设有出气口，喷出的气体通过出气口喷至安装壳体外部的物料，将从而实现对物料进行清洁；通过等离子装置对物料进行清洁，同时下压气缸驱动等离子装置上下移动，增大清洁面积，且清洁效果更佳；安装壳体将等离子装置与下压气缸保护在内，由等离子装置通过安装壳体上的出气口对物料进行清洁，结构简单，操作方便，成本低。

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