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专利状态

微光学成像系统

有效

专利申请进度

申请

2023-01-05

授权

2023-05-02

预估到期

2033-01-05

专利基础信息

申请号	CN202320023796.7	申请日	2023-01-05
授权公布号	CN218956931U	授权公告日	2023-05-02
分类号	G02B30/27
分类	光学;
申请人名称	上海天臣微纳米科技股份有限公司
申请人地址	上海市松江区莘砖公路118号1幢101室

专利法律状态

2023-05-02

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种微光学成像系统，属于光学成像技术领域。所述微光学成像系统包括：基材，微缩图文层和微透镜阵列。微缩图文层，在基材的一侧，且设置有微缩图文。微透镜阵列在基材相对的另一侧，并对应所述微缩图文设置。所述微透镜阵列包括若干个微透镜单体，所述微透镜单体包括光学通道和聚焦结构，所述光学通道的长度与基材层的厚度之和与聚焦结构的焦距接近一致。

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