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专利状态

一种光谱仪

有效

专利申请进度

申请

2019-09-19

授权

2020-05-22

预估到期

2029-09-19

专利基础信息

申请号	CN201921563457.8	申请日	2019-09-19
授权公布号	CN210603594U	授权公告日	2020-05-22
分类号	G01J3/28;G01J3/04;G01J3/02
分类	测量；测试;
申请人名称	杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨康路669号

专利法律状态

2020-05-22

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开一种光谱仪，包括依次设置的第一狭缝，准直单元，第一色散单元，聚焦单元，第二狭缝，第二色散单元及二维阵列探测器；第一狭缝设置于准直单元的物面焦点上或附近；第二狭缝设置于聚焦单元的像面焦点上或附近；入射光经第一色散单元和第二色散单元的二次色散后，成像至二维阵列探测器接收面，第一色散单元的主截面和第二色散单元的主截面相互垂直；第一狭缝垂直于第一色散单元的主截面，第二狭缝垂直于第二色散单元的主截面，第一狭缝和第二狭缝相互垂直。本实用新型可使不同波长的光在二维阵列探测器接收面的平面上呈倾斜分离，消除了相近波长光在测试过程中反射到目标波长区域带来的误差，剔除杂散光对测试结果的影响。

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