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专利状态

外延-刻蚀一体机

有效

专利申请进度

申请

2021-02-26

授权

2021-10-29

预估到期

2031-02-26

专利基础信息

申请号	CN202120423164.0	申请日	2021-02-26
授权公布号	CN214542139U	授权公告日	2021-10-29
分类号	H01L21/67;H01L21/677
分类	基本电气元件;
申请人名称	格科微电子（上海）有限公司
申请人地址	上海市浦东新区张江盛夏路560号2号楼11层

专利法律状态

2021-10-29

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供一种外延‑刻蚀一体机，所述一体机包括：至少一外延装置，用于执行外延操作；至少一刻蚀装置，用于执行刻蚀操作；其中，所述外延装置与所述刻蚀装置分离设置。通过将外延装置与刻蚀装置一体化设置，在制备需要进行多次外延、刻蚀的半导体结构时，不需要进行多次破真空、抽真空操作，就可以完成半导体结构的制备，提高设备生产效率、减少晶圆转运风险、简化工艺过程。

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