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专利状态
一种深度测量装置及测量方法
有效
专利申请进度
申请
2019-12-28
申请公布
2020-04-17
授权
2022-05-27
预估到期
2039-12-28
专利基础信息
申请号 CN201911385285.4 申请日 2019-12-28
申请公布号 CN111025319A 申请公布日 2020-04-17
授权公布号 CN111025319B 授权公告日 2022-05-27
分类号 G01S17/36;G01S7/481;G01S17/89
分类 测量;测试;
申请人名称 奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
专利法律状态
  • 2022-05-27
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-04-17
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种深度测量装置,包括发射单元、接收单元、以及控制与处理电路;其中,发射单元包括光源和光学元件,光源发射时序上振幅被调制的光束,光束经过光学元件后投射到目标区域;接收单元包括有TOF图像传感器和变焦透镜,TOF图像传感器采集目标区域反射回的光束并形成电信号,变焦透镜将反射光束投射到TOF图像传感器中;控制与处理电路接收电信号并计算出反射光束的强度信息,根据强度信息及预定义的阈值范围调整变焦透镜的焦距,进而调整TOF图像传感器采集反射光束的视场角。通过调整变焦透镜的焦距进而调整传感器接收反射光束的光强度,保证传感器在不同情况均可接收到有效的响应信号,提高了装置的测量精度。