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专利状态
一种新型多晶硅片清洗机
有效
专利申请进度
申请
2016-07-18
授权
2016-12-14
预估到期
2026-07-18
专利基础信息
申请号 CN201620767686.1 申请日 2016-07-18
授权公布号 CN205797876U 授权公告日 2016-12-14
分类号 B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00
分类 清洁;
申请人名称 浙江芯能光伏科技股份有限公司
申请人地址 浙江省嘉兴市海宁市皮都路9号
专利法律状态
  • 2016-12-14
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型提供了一种新型多晶硅片清洗机,属于机械技术领域。它解决了现有的清洗机清洗效果不佳的问题。本新型多晶硅片清洗机包括底板和设于底板上的圆板,圆板下侧设有多个喷头,圆板和底板之间设有储液桶,储液桶顶部敞口、底部封闭,底板上设有能驱动储液桶上下平移的驱动件,储液桶顶壁能与圆板下端面相抵并将储液桶顶部敞口封闭,储液桶内固定有呈锥形的支撑筒,支撑筒直径向下逐渐减小,支撑筒上端口处制有向外的翻边,翻边上端面上设有用于放置多晶硅片的凹槽,凹槽的数量与喷头相同且凹槽的位置与喷头的出水口一一正对。本新型多晶硅片清洗机具有清洗效果好的优点。