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专利状态
一种清洗装置及清洗方法
有效
专利申请进度
申请
2020-03-05
申请公布
2020-06-26
授权
2023-10-17
预估到期
2040-03-05
专利基础信息
申请号 CN202010147104.0 申请日 2020-03-05
申请公布号 CN111341697A 申请公布日 2020-06-26
授权公布号 CN111341697B 授权公告日 2023-10-17
分类号 H01L21/67;H01L21/02;H01L21/027;B08B3/08;B08B7/00
分类 基本电气元件;
申请人名称 TCL华星光电技术有限公司
申请人地址 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
专利法律状态
  • 2023-10-17
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-07-21
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):H01L21/67;申请日:20200305
  • 2020-06-26
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明提供了一种清洗装置及清洗方法。清洗装置用于传送并清洗表面带有金属膜的基板,包括有机颗粒去除单元、气相还原单元、药液中和单元、无机颗粒去除单元以及风刀除水单元。所述气相还原单元的入口与所述有机颗粒去除单元的出口连接,用于通过填充还原性气体并利用气相还原方法还原所述金属膜表面的金属氧化物。本发明通过增加气相还原单元在还原性气体的作用下去除金属膜表面的金属氧化物,避免电极材料的金属膜在黄光清洗后在其表面产生的金属氧化物,使器件电学性能良好,保证了基板亮度均匀。