虚拟量测方法和虚拟量测装置

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专利状态

虚拟量测方法和虚拟量测装置

有效

专利申请进度

申请

2019-07-19

申请公布

2019-11-12

授权

2023-12-15

预估到期

2039-07-19

专利基础信息

申请号	CN201910652892.6	申请日	2019-07-19
申请公布号	CN110442930A	申请公布日	2019-11-12
授权公布号	CN110442930B	授权公告日	2023-12-15
分类号	G16C20/10;G16C20/70;G01B21/08;G06F30/27;G06F119/12N;G06F119/08N;CN108011054A,2018.05.08;JP2001240965A,2001.09.04;JP2001304849A,2001.10.31;JP2014099437A,2014.05.29;TW201723214A,2017.07.01;US2010003831A1,2010.01.07;CN106252252A,2016.12.21;CN107236936A,2017.
分类	计算；推算；计数;
申请人名称	TCL华星光电技术有限公司
申请人地址	广东省深圳市光明新区塘明大道9.2号

专利法律状态

2023-12-15

授权

状态信息

授权
2021-03-02

著录事项变更

状态信息

著录事项变更；IPC(主分类):G06F17/50；变更事项:申请人；变更前:深圳市华星光电技术有限公司；变更后:TCL华星光电技术有限公司；变更事项:地址；变更前:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9.2号；变更后:518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9.2号
2019-12-06

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G06F17/50；申请日:20190719
2019-11-12

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供一种虚拟量测方法和虚拟量测装置，该虚拟量测方法用于预测膜层厚度，该虚拟量测方法包括：获取所述膜层对应的制程参数以及制程时间，根据参数速率关系，以及所述制程参数，确定所述制程参数对应的成膜速率，根据所述制程时间、以及所述成膜速率，确定所述膜层的厚度；通过获取膜层对应的制程参数和制程时间，并根据参数速率关系，以及获取的制程参数，可确定膜层的成膜速率，然后根据获取的制程时间和膜层的成膜速率得到膜层的厚度，可消除制程时间对预测的影响，从而使得预测膜厚准确性提高，提高模型的拟合度，解决了现有虚拟量测方法存在预测膜厚不准确的技术问题。

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