一种转印基板及激光转印装置

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专利状态

一种转印基板及激光转印装置

有效

专利申请进度

申请

2023-05-31

授权

2023-09-29

预估到期

2033-05-31

专利基础信息

申请号	CN202321369847.8	申请日	2023-05-31
授权公布号	CN219769375U	授权公告日	2023-09-29
分类号	B41F16/00;H01L31/18;H01L31/0224
分类	印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕;
申请人名称	隆基绿能科技股份有限公司
申请人地址	陕西省西安市长安区航天中路388号

专利法律状态

2023-09-29

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开一种转印基板及激光转印装置，涉及图案转印技术领域。用于在转印过程中，当激光光束逐个照射位于相应沟槽内的浆料时，通过遮光层遮挡该激光光束偏斜至相邻沟槽的部分，防止与当前照射的沟槽相邻的其它沟槽产生一定热效应而造成出现转印缺陷，提高所制造结构的良率，进而利于提升所制造结构的工作性能。该转印基板包括：透明转印部和遮光层。透明转印部具有相对的入光面和背光面。透明转印部的背光面一侧设置有沟槽图案。上述遮光层位于透明转印部的入光面一侧。遮光层内开设有贯穿的透光图案，透光图案在背光面一侧的投影轮廓覆盖沟槽图案的槽口轮廓。遮光层为直接成型在入光面一侧的镀层或涂层。所述转印基板应用于激光转印装置。

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