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专利状态
热屏及单晶炉热场
有效
专利申请进度
申请
2023-08-15
授权
2024-03-22
预估到期
2033-08-15
专利基础信息
申请号 CN202322196870.8 申请日 2023-08-15
授权公布号 CN220643336U 授权公告日 2024-03-22
分类号 C30B15/14;C30B15/20
分类 晶体生长〔3〕;
申请人名称 隆基绿能科技股份有限公司
申请人地址 陕西省西安市长安区航天中路388号
专利法律状态
  • 2024-03-22
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种热屏及单晶炉热场,热屏包括主体段及与主体段相连的改性段,改性段包括底板和与底板相连的圆弧部,沿热屏的高度方向,改性段的高度小于或等于主体段的高度;热屏具有内部腔体,改性段包括靠近内部腔体的基体层和远离内部腔体的耐蚀层,耐蚀层用于抵抗单晶炉热场中产生的硅蒸气的侵蚀。本实用新型实施例中,耐蚀层能够抵抗单晶炉热场中产生的硅蒸气的侵蚀,使得热屏中的改性段不易被硅蒸气腐蚀,从而延缓了改性段的腐蚀速率,进而提高了热屏的使用寿命。