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专利状态

热屏及单晶炉热场

有效

专利申请进度

申请

2023-08-15

授权

2024-03-22

预估到期

2033-08-15

专利基础信息

申请号	CN202322196870.8	申请日	2023-08-15
授权公布号	CN220643336U	授权公告日	2024-03-22
分类号	C30B15/14;C30B15/20
分类	晶体生长〔3〕;
申请人名称	隆基绿能科技股份有限公司
申请人地址	陕西省西安市长安区航天中路388号

专利法律状态

2024-03-22

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种热屏及单晶炉热场，热屏包括主体段及与主体段相连的改性段，改性段包括底板和与底板相连的圆弧部，沿热屏的高度方向，改性段的高度小于或等于主体段的高度；热屏具有内部腔体，改性段包括靠近内部腔体的基体层和远离内部腔体的耐蚀层，耐蚀层用于抵抗单晶炉热场中产生的硅蒸气的侵蚀。本实用新型实施例中，耐蚀层能够抵抗单晶炉热场中产生的硅蒸气的侵蚀，使得热屏中的改性段不易被硅蒸气腐蚀，从而延缓了改性段的腐蚀速率，进而提高了热屏的使用寿命。

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