一种断口试样剖面的EBSD样品制备方法

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专利状态

一种断口试样剖面的EBSD样品制备方法

有效

专利申请进度

申请

2020-06-07

申请公布

2020-11-24

授权

2023-05-09

预估到期

2040-06-07

专利基础信息

申请号	CN202010509221.7	申请日	2020-06-07
申请公布号	CN111982642A	申请公布日	2020-11-24
授权公布号	CN111982642B	授权公告日	2023-05-09
分类号	G01N1/32
分类	测量；测试;
申请人名称	首钢集团有限公司
申请人地址	北京市石景山区石景山路68号

专利法律状态

2023-05-09

授权

状态信息

授权
2020-11-24

公布

状态信息

公布

摘要

一种断口试样剖面的EBSD样品制备方法，属于金属显微分析技术领域。具体步骤为：截取断口附近2～3mm的试样，镶嵌后在室温下放置36～48小时待树脂完全固化；试样磨平和抛光后再进行精抛光，最后进行EBSD信号采集和分析，利用Channel 5程序中的Strain Contouring模块对扫描数据做微观应变分析，每个晶粒的微观应变为：S＝Δmax×G，通过高斯平滑处理把各个晶粒的微观应变散点分布平滑成强度分布，高斯平滑处理的半高宽根据试样显微组织确定。优点在于，能够获得断口边缘平整无倒角、无应力的抛光剖面，实现在断口边缘10μm以内的区域连续采集EBSD信号。

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