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专利状态
一种甲磺司特工艺杂质I及其制备方法和用途
有效
专利申请进度
申请
2019-12-04
申请公布
2020-04-07
授权
2022-02-18
预估到期
2039-12-04
专利基础信息
申请号 CN201911229643.2 申请日 2019-12-04
申请公布号 CN110963953A 申请公布日 2020-04-07
授权公布号 CN110963953B 授权公告日 2022-02-18
分类号 C07C381/12;C07C303/32;C07C309/30
分类 有机化学〔2〕;
申请人名称 植恩生物技术股份有限公司
申请人地址 重庆市九龙坡区高新大道28号金凤生物医药产业园标准厂房1-6号
专利法律状态
  • 2022-02-18
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-03-09
    著录事项变更
    状态信息
    著录事项变更;IPC(主分类):C07C 381/12;专利申请号:2019112296432;变更事项:申请人;变更前:重庆植恩药业有限公司;变更后:植恩生物技术股份有限公司;变更事项:地址;变更前:400021 重庆市九龙坡区高新大道28号金凤生物医药产业园标准厂房1-6号;变更后:401329 重庆市九龙坡区高新大道28号金凤生物医药产业园标准厂房1-6号;变更事项:申请人;变更前:重庆柳江医药科技有限公司;变更后:重庆柳江医药科技有限公司
  • 2020-07-28
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效;IPC(主分类):C07C 381/12;专利申请号:2019112296432;申请日:20191204
  • 2020-04-07
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了甲磺司特工艺杂质I及其制备方法和用途,该杂质为甲磺司特原料药中的主要杂质。本发明所公开的制备方法成本低廉,并能够进行大量合成,为甲磺司特杂质的定性及定量分析提供对照品,从而为甲磺司特原料药及相关制剂的质量研究夯实了基础。