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专利状态
一种高矫顽力含铈磁体及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2019-11-22
申请公布
2020-02-28
授权
2021-07-13
预估到期
2039-11-22
专利基础信息
申请号 CN201911158098.2 申请日 2019-11-22
申请公布号 CN110853856A 申请公布日 2020-02-28
授权公布号 CN110853856B 授权公告日 2021-07-13
分类号 H01F1/057;H01F41/02;C22C38/00;C22C30/00;B22F5/00
分类 基本电气元件;
申请人名称 安泰科技股份有限公司
申请人地址 北京市海淀区学院南路76号
专利法律状态
  • 2021-07-13
    授权
    状态信息
    授权
  • 2020-03-24
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效 IPC(主分类):H01F1/057
  • 2020-02-28
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明公开了一种高矫顽力含铈磁体的制备方法,该方法包括:调配所述含Ce主合金的原材料;调配所述晶界优化辅合金的原材料;将所述含Ce主合金的原材料、所述晶界优化辅合金的原材料分别进行真空熔炼和速凝甩带处理,得到含Ce主合金速凝薄片和界优化辅合金速凝薄片;将所述含Ce主合金速凝薄片和所述晶界优化辅合金速凝薄片按1:x的重量比混合,之后进行氢破处理和气流磨处理,得到混合粉末,向所述混合粉末中加入润滑剂,进行混合,得到混合料;对所述混合料进行磁场取向压型,并冷等静压,得到生坯;将所述生坯进行烧结,随后进行回火热处理,得到含铈磁体。本发明有效简化了制备工序,而且可有效降低辅合金被氧化的风险。