一种用于电容白板的轨迹平滑方法及其装置

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专利状态

一种用于电容白板的轨迹平滑方法及其装置

有效

专利申请进度

申请

2014-12-01

申请公布

2016-06-29

授权

2018-08-21

预估到期

2034-12-01

专利基础信息

申请号	CN201410720439.1	申请日	2014-12-01
申请公布号	CN105718122A	申请公布日	2016-06-29
授权公布号	CN105718122B	授权公告日	2018-08-21
分类号	G06F3/044
分类	计算；推算；计数;
申请人名称	鸿合科技股份有限公司
申请人地址	北京市海淀区上地三街9号C座C1104室

专利法律状态

2018-08-21

授权

状态信息

授权
2018-04-10

著录事项变更

状态信息

著录事项变更；IPC(主分类):G06F3/044；变更事项:申请人；变更前:鸿合科技有限公司；变更后:鸿合科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:100085 北京市海淀区上地三街9号C座C1104室；变更后:100085 北京市海淀区上地三街9号C座C1104室
2016-07-27

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G06F3/044；申请日:20141201
2016-06-29

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种用于电容白板的轨迹平滑方法及其装置，系统中首先设置一个用于界定屏幕上某一动态区域的数值D，进而执行如下步骤：⑴通过采样得到某轨迹的一个新增点坐标；⑵自存储结构中读取该轨迹的最后一个轨迹坐标点；如果新增坐标点是该轨迹的第一个点，则建立存储结构、存储该点坐标并将该坐标值作为平滑后的轨迹坐标；⑶计算在由D和上述最后一个轨迹坐标点框定的固定区域内包括的轨迹点数n；⑷基于参与新增点移动平均值计算的点数n、相应的点坐标以及步骤⑴中得到的新增点坐标，按照移动平均值公式计算新增点的轨迹坐标。因此，本发明能够使电容白板的轨迹平滑保持较高的运算效率。

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