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专利状态
一种立式镀膜装置
有效
专利申请进度
申请
2022-04-18
授权
2022-12-16
预估到期
2032-04-18
专利基础信息
申请号 CN202220900043.5 申请日 2022-04-18
授权公布号 CN218059179U 授权公告日 2022-12-16
分类号 C23C14/50;C23C14/35;C23C14/54
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 浙江水晶光电科技股份有限公司
申请人地址 浙江省台州市椒江区星星电子产业区A5号(洪家后高桥村)
专利法律状态
  • 2022-12-16
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本申请提供一种立式镀膜装置,涉及半导体制备技术领域,包括基座、镀膜机构以及转动设置于基座上的公转机构,在公转机构的周壁设置有载板,在载板上转动设置有用于放置平面基板的自转机构,公转机构的转动平面与自转机构的转动平面垂直,镀膜机构设置于基座且与平面基板对应,以此通过自转能够改变平面基板表面位置点与镀膜机构的距离,从而平衡各位置点距离的差异化,进而减小平面基板表面镀膜的横向散差,提高产品的均匀性和良率。