阵列基板及其制备方法、显示装置

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专利状态

阵列基板及其制备方法、显示装置

有效

专利申请进度

申请

2020-10-29

申请公布

2021-01-29

授权

2024-03-15

预估到期

2040-10-29

专利基础信息

申请号	CN202011178867.8	申请日	2020-10-29
申请公布号	CN112289955A	申请公布日	2021-01-29
授权公布号	CN112289955B	授权公告日	2024-03-15
分类号	H10K50/842;H10K50/844;H10K59/12;H10K71/00
分类
申请人名称	京东方科技集团股份有限公司
申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利法律状态

2024-03-15

授权

状态信息

授权
2021-01-29

公布

状态信息

公布

摘要

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置。阵列基板包括衬底基板和封装挡墙，封装挡墙包括无机层和有机层，无机层靠近和远离显示区的两个侧壁之间的距离在远离衬底基板的一侧大于靠近衬底基板的一侧；有机层位于无机层靠近衬底基板的一侧，且有机层的至少部分外壁与无机层朝向衬底基板一侧的外壁贴合。无机层上宽下窄的结构可以防止打印有机材料时有机墨水向封装挡墙上方攀爬，切断水氧进入显示区的路径。有机层对无机层起到支撑作用，防止无机层结构坍塌，由此提高有效提高封装效果。

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