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专利状态

一种成像系统

有效

专利申请进度

申请

2021-07-13

申请公布

2021-11-02

授权

2023-10-10

预估到期

2041-07-13

专利基础信息

申请号	CN202110787541.3	申请日	2021-07-13
申请公布号	CN113589479A	申请公布日	2021-11-02
授权公布号	CN113589479B	授权公告日	2023-10-10
分类号	G02B13/00;G02B13/18
分类	光学;
申请人名称	浙江大华技术股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨安路1187号

专利法律状态

2023-10-10

授权

状态信息

授权
2021-11-19

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G02B13/00；申请日:20210713
2021-11-02

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种成像系统，所述成像系统包括标准镜头，所述标准镜头的物侧还包括由物侧至像侧依次排列的第一透镜组、孔径光阑、第二负光焦度透镜和第二透镜组，所述标准镜头的像侧还包括滤光片和像面；所述成像系统满足以下条件：50.6≤（fg1/fg2）×f×tan（FOV）≤63.1；TTL/f≤0.69；其中，fg1为所述第一透镜组的焦距，fg2为所述第二透镜组的焦距，f为所述成像系统的焦距，FOV为所述成像系统的视场角，TTL为所述第一透镜组朝向物侧的一面与所述像面之间的距离。在保证倍率增大的基础上，实现了一种大靶面、高分辨率的成像系统，并且成像系统的尺寸较小。

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