一种降低焦铜镀液铜离子的装置

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专利状态

一种降低焦铜镀液铜离子的装置

有效

专利申请进度

申请

2019-09-10

授权

2020-06-12

预估到期

2029-09-10

专利基础信息

申请号	CN201921499505.1	申请日	2019-09-10
授权公布号	CN210736922U	授权公告日	2020-06-12
分类号	C25D3/38
分类	电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕;
申请人名称	江苏兴达钢帘线股份有限公司
申请人地址	江苏省泰州市兴化市戴南镇人民西路88号

专利法律状态

2020-06-12

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型提出一种降低焦铜镀液铜离子的装置包括镀槽体，14节镀槽中包括2个调节槽，2个调节槽中的阳极架均为不溶性阳极架，除2个调节槽之外的12节镀槽中的阳极架均为可溶性阳极架，阳极架浸入焦铜镀液中，2个调节槽内不添加铜粒，除2个调节槽外的12个镀槽内均添加铜粒。本实用新型的一种降低焦铜镀液铜离子的装置，通过更改第13节镀槽中阳极架为不溶性钛合金阳极架后镀槽中不再添加铜粒，利用调节槽来消耗镀液中总多余铜离子，实现降低焦铜镀液中铜离子的含量，稳定铜离子工艺参数目标值，焦铜镀液各指标Cpk均≥1.33，同时焦磷酸钾、焦磷酸辅材吨耗得到下降，减少辅材耗用的目的。

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