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专利状态
一种低辐射镀膜玻璃及其制作工艺
有效
专利申请进度
申请
2016-05-06
申请公布
2016-07-20
授权
2019-02-12
预估到期
2036-05-06
专利基础信息
申请号 CN201610298129.4 申请日 2016-05-06
申请公布号 CN105776893A 申请公布日 2016-07-20
授权公布号 CN105776893B 授权公告日 2019-02-12
分类号 C03C17/36
分类 玻璃;矿棉或渣棉;
申请人名称 上海耀皮玻璃集团股份有限公司
申请人地址 上海市浦东新区张东路1388号4-5幢
专利法律状态
  • 2019-02-12
    授权
    状态信息
    授权
  • 2016-08-17
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):C03C 17/36申请日:20160506
  • 2016-07-20
    公布
    状态信息
    公开
摘要
本发明提供了一种低辐射镀膜玻璃及其制作工艺,所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底表面的镀层,所述镀层包括金属钨层,所述金属钨层的厚度为2‑7nm,所述镀层的厚度为180‑220nm。所述低辐射镀膜玻璃采用溅射工艺制备得到。所述低辐射镀膜玻璃能够在满足高遮阳、中性色的前提下尽可能的降低玻璃面反射的亮度从而很好的抑制了光污染的发生,具有室内外低反射的性能。