一种含有图形化DBR结构的衬底

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专利状态

一种含有图形化DBR结构的衬底

失效

专利申请进度

申请

2011-03-11

申请公布

2012-09-19

授权

2015-02-18

预估到期

2031-03-11

专利基础信息

申请号	CN201110058547.3	申请日	2011-03-11
申请公布号	CN102683532A	申请公布日	2012-09-19
授权公布号	CN102683532B	授权公告日	2015-02-18
分类号	H01L33/22;H01L33/10;H01L33/00
分类	基本电气元件;
申请人名称	江苏欣达通信科技股份有限公司
申请人地址	江苏省苏州市吴江区七都镇创立路

专利法律状态

2024-03-22

专利权的终止

状态信息

未缴年费专利权终止；IPC(主分类):H01L33/22；申请日:20110311；授权公告日:20150218
2020-10-13

专利申请权、专利权的转移

状态信息

专利权的转移；IPC(主分类):H01L33/22；登记生效日:20200921；变更事项:专利权人；变更前:山东浪潮华光光电子股份有限公司；变更后:江苏欣达通信科技股份有限公司；变更事项:地址；变更前:261061 山东省潍坊市高新区金马路9号；变更后:215200 江苏省苏州市吴江区七都镇创立路
2015-12-02

专利申请权、专利权的转移

状态信息

专利权的转移；IPC(主分类):H01L33/22；登记生效日:20151111；变更事项:专利权人；变更前:山东华光光电子有限公司；变更后:山东浪潮华光光电子股份有限公司；变更事项:地址；变更前:250101 山东省济南市高新区天辰大街1835号；变更后:261061 山东省潍坊市高新区金马路9号
2015-02-18

授权

状态信息

授权
2012-11-14

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):H01L33/22；申请日:20110311
2012-09-19

公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种图形化DBR结构的衬底，是在衬底平面上制出周期性的DBR图形，所述DBR图形的周期为6-20μm，在DBR图形中交替蒸镀高低折射率的介质膜。在该结构的衬底上生长外延薄膜晶体质量高、缺陷少，芯片器件出光效率高，适合大功率高亮度LED器件制备应用。

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