一种投影光学系统及投影仪

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专利状态

一种投影光学系统及投影仪

有效

专利申请进度

申请

2015-12-31

授权

2016-07-06

预估到期

2025-12-31

专利基础信息

申请号	CN201521138971.9	申请日	2015-12-31
授权公布号	CN205374966U	授权公告日	2016-07-06
分类号	G03B21/20;G03B21/14
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新园区黄浦路717号11层

专利法律状态

2016-07-06

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种投影光学系统及投影仪，所述投影光学系统包括：激光光源；第一汇聚光学系统；第一反射透射光学系统；第二汇聚光学系统；荧光色轮；第一全反射镜；第二全反射镜；第二反射透射光学系统；第三汇聚光学系统；匀光棒；第四中继光学系统；反射镜；TIR棱镜；数字微镜器件；本发明避免了现有光学系统由于激光会聚焦点相对荧光色轮的荧光粉涂层的位置存在偏差，所导致的能量损失和整个投影光学系统的亮度性能下降的问题，解决了由于机械加工精度和组装误差造成的光轴偏移的问题，能够改善光路输出效果，保持光学系统较好的光轴一致性。

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