一种透镜调整结构及投影光学系统

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专利状态

一种透镜调整结构及投影光学系统

有效

专利申请进度

申请

2015-12-31

授权

2016-08-17

预估到期

2025-12-31

专利基础信息

申请号	CN201521139269.4	申请日	2015-12-31
授权公布号	CN205484994U	授权公告日	2016-08-17
分类号	G02B7/02;G03B21/14
分类	光学;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新园区黄浦路717号11层

专利法律状态

2016-08-17

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种透镜调整结构及投影光学系统，所述透镜调整结构包括：透镜支架、基座、第一预紧件、第二预紧件、调整弹簧和紧固件；所述透镜支架包括调整部和支撑部；所述调整部上具有分别设置在所述支撑部两侧的第一导向孔和第二导向孔；在所述调整部的下表面上突出设置有位于第一导向孔和第二导向孔之间的第一对接件；所述基座上具有第一定位件和第二定位件；在所述基座上开设有位于第一定位件和第二定位件之间的贯通开口；在所述贯通开口中设有位于贯通开口一侧的第二对接件；本实用新型避免了现有光学系统由于激光会聚焦点相对荧光色轮的荧光粉涂层的位置存在偏差，所导致的能量损失和整个投影光学系统的亮度性能下降的问题。

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