一种透镜调节装置及投影光学系统

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专利状态

一种透镜调节装置及投影光学系统

有效

专利申请进度

申请

2015-12-31

授权

2016-08-10

预估到期

2025-12-31

专利基础信息

申请号	CN201521139270.7	申请日	2015-12-31
授权公布号	CN205450412U	授权公告日	2016-08-10
分类号	G02B7/02;G03B21/14
分类	光学;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新园区黄浦路717号11层

专利法律状态

2016-08-10

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种透镜调节装置及投影光学系统，所述透镜调节装置包括：依次放置的第一调整基座、第二调整基座和第三调整基座；所述第一调整基座上具有第一中空部、设置在第一调整基座侧壁上的第一定位部件、以及设置在第一调整基座上部的第一定位基准孔；所述第二调整基座上具有第二中空部、设置在第二调整基座侧壁上的第一弯折部件、设置在第二调整基座上部的第二弯折部件、以及设置在第二调整基座上部的第二定位基准孔；所述第三调整基座上具有第三中空部、设置在第三调整基座上部的第三弯折部件、以及设置在第三调整基座上部的第二定位基准孔；本实用新型能够保持光学系统较好的光轴一致性。

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