一种双伺服反馈光路的聚焦伺服信号生成装置与伺服方法

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专利状态

一种双伺服反馈光路的聚焦伺服信号生成装置与伺服方法

有效

专利申请进度

申请

2021-12-31

申请公布

2022-04-12

授权

2023-12-29

预估到期

2041-12-31

专利基础信息

申请号	CN202111670490.2	申请日	2021-12-31
申请公布号	CN114333915A	申请公布日	2022-04-12
授权公布号	CN114333915B	授权公告日	2023-12-29
分类号	G11B7/1372;G11B7/1374;G11B7/127
分类	信息存储;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新技术产业园区黄浦路717号华录大厦16层

专利法律状态

2023-12-29

授权

状态信息

授权
2022-04-29

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G11B7/1372；申请日:20211231
2022-04-12

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种双伺服反馈光路的聚焦伺服信号生成装置与伺服方法，包括激发光光源用于发出激光束，并将激光束聚焦于光盘盘面；反射光源传输单元用于传输经光盘反射的光源；数据信号接收单元用于将反射光源转化为数据信号；伺服信号接收单元用于将反射光源经半反半透镜反射后形成伺服光源，伺服光源通过半反半透镜形成第一伺服光源和第二伺服光源，第一伺服光源和第二伺服光源分别通过不同焦距的椭球面检出镜、SV接收器分别形成第一伺服信号和第二伺服信号，伺服系统根据伺服电机驱动信号实时调整物镜与光盘位置之间的位置。本发明在大范围的离焦量内完成高精度聚焦伺服信号的生产，使伺服系统时刻保持最佳工作状态，减少数据读错错误。

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