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专利状态

一种角度阵列匀光棒

有效

专利申请进度

申请

2021-01-28

申请公布

2021-06-08

授权

2023-07-14

预估到期

2041-01-28

专利基础信息

申请号	CN202110121064.7	申请日	2021-01-28
申请公布号	CN112925104A	申请公布日	2021-06-08
授权公布号	CN112925104B	授权公告日	2023-07-14
分类号	G02B27/09;G03B21/20
分类	光学;
申请人名称	中国华录集团有限公司
申请人地址	辽宁省大连市高新技术产业园区黄浦路717号华录大厦16层

专利法律状态

2023-07-14

授权

状态信息

授权
2021-06-25

实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G02B27/09；申请日:20210128
2021-06-08

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种角度阵列匀光棒，包括匀光棒体，所述匀光棒体内设有工作腔，所述工作腔一端为光源入射端，另一端为光源出射端，所述工作腔中设有四个工作面，所述工作面上沿匀光棒体长度方向设有角度阵列反射镜，相对的两个所述工作面上的所述角度阵列反射镜的坡度方向相反。该匀光棒实现了不改变光棒的长度的前提下可以增加反射次数，从而提高匀光能力。

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