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专利状态

一种抗光投影幕布

有效

专利申请进度

申请

2021-05-13

授权

2021-11-23

预估到期

2031-05-13

专利基础信息

申请号	CN202121027014.4	申请日	2021-05-13
授权公布号	CN214846223U	授权公告日	2021-11-23
分类号	G03B21/60;G03B21/604;G02B30/00
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	深圳未来立体科技有限公司
申请人地址	广东省深圳市宝安区福海街道塘尾社区富华工业区8栋

专利法律状态

2021-11-23

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种抗光投影幕布，包括至少一预制结构块；预制结构块至少包括：第一光学结构层，第一光学结构层为空间结构层，空间结构层上设有多个彼此相接的凸块，凸块的各个表面及凸块之间的相接表面镀有反射膜且相互垂直，第一光学结构层用于将任意角度的入射光线沿原方向反射出去；第二光学结构层，用于对入射光线进行处理或、第一光学结构层进行支撑或者保护。实施本实用新型，通过设置第一光学结构层设置为互相成垂直布局的镀有金属反射膜的空间结构，与角反射器类似的空间布局使得入射光不论从何方向射入都将在经历几次反射后沿原方向出射，大大提高了幕布对非投影机方向外的环境杂光的抗干扰能力。

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