一种低磁致伸缩取向硅钢及其制造方法

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专利状态

一种低磁致伸缩取向硅钢及其制造方法

有效

专利申请进度

申请

2021-01-11

申请公布

2022-07-19

授权

2023-05-09

预估到期

2041-01-11

专利基础信息

申请号	CN202110031202.2	申请日	2021-01-11
申请公布号	CN114762911A	申请公布日	2022-07-19
授权公布号	CN114762911B	授权公告日	2023-05-09
分类号	B23K26/00;B23K26/362;C21D1/26;C21D1/68;C21D6/00;C21D8/12;C21D9/00;C22C38/00;C22C38/02;C22C38/04;C22C38/06
分类	机床；不包含在其他类目中的金属加工;
申请人名称	宝山钢铁股份有限公司
申请人地址	上海市宝山区富锦路885号

专利法律状态

2023-05-09

授权

状态信息

授权
2022-07-19

公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种低磁致伸缩取向硅钢的制造方法，其包括步骤：（1）在硅钢基板上进行单面激光刻痕，其中进行激光刻痕的表面为第一表面，第一表面的背向一侧表面为第二表面；（2）基于激光刻痕的功率确定第一表面和第二表面的挠度差；（3）基于挠度差获得第一表面和第二表面所涂覆的绝缘涂层的涂覆量差；（4）基于涂覆量差，在第一表面和第二表面上涂覆绝缘涂层，其中第二表面的绝缘涂层涂覆量大于第一表面的绝缘涂层涂覆量。相应地，本发明还公开了采用上述制造方法所制得的低磁致伸缩取向硅钢，其第一表面和第二表面的磁致伸缩偏差≤2db（A），并且所述低磁致伸缩取向硅钢的平均磁致伸缩≤55db（A）。

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