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专利状态
一种双盘式低噪音的金相试样磨抛机
有效
专利申请进度
申请
2021-05-24
授权
2021-11-09
预估到期
2031-05-24
专利基础信息
申请号 CN202121115374.X 申请日 2021-05-24
授权公布号 CN214642606U 授权公告日 2021-11-09
分类号 B24B27/00;B24B47/12;B24B41/00;B24B41/02;B24B55/02
分类 磨削;抛光;
申请人名称 苏州南光电子科技有限公司
申请人地址 江苏省苏州市吴中区长蠡路99号吴中科技创业园4楼407室
专利法律状态
  • 2021-11-09
    授权
    状态信息
    授权
摘要
本实用新型公开了一种双盘式低噪音的金相试样磨抛机,包括装置主体,所述装置主体的两侧外表面固定安装有侧板,所述装置主体上端外表面的左侧固定安装有第一防护盘,所述装置主体上端外表面的右侧固定安装有第二防护盘,且所述第一防护盘与第二防护盘的下部均设置有打磨机构。本实用新型所述的一种双盘式低噪音的金相试样磨抛机,通过设置的两组打磨机构,通过磨盘电机的运转带动转轴的转动,转轴带动磨抛盘的转动,通过设置的砂纸即可工件进行打磨,且双盘设计,研磨与抛光可独立操作,便于使用,具备双盘设计,研磨与抛光可独立操作,机体整体不锈钢,坚固耐用,柜体储藏空间,噪音低等优点,带来更好的使用前景。