光敏印章机曝光通用模板_专利查询-品牌网

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专利状态

光敏印章机曝光通用模板

有效

专利申请进度

申请

2016-08-31

授权

2017-03-08

预估到期

2026-08-31

专利基础信息

申请号	CN201621019795.1	申请日	2016-08-31
授权公布号	CN205997527U	授权公告日	2017-03-08
分类号	B41K3/62
分类	印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕;
申请人名称	世纪开元智印互联科技集团股份有限公司
申请人地址	山东省济南市高新区天辰路1251号

专利法律状态

2021-02-26

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):B41K3/62；专利号:ZL2016210197951；变更事项:专利权人；变更前:山东世纪开元电子商务集团有限公司；变更后:世纪开元智印互联科技集团股份有限公司；变更事项:地址；变更前:250101 山东省济南市高新区天辰路1251号；变更后:250101 山东省济南市高新区天辰路1251号
2018-12-21

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):B41K3/62；专利号:ZL2016210197951；变更事项:专利权人；变更前:山东世纪开元电子商务有限公司；变更后:山东世纪开元电子商务集团有限公司；变更事项:地址；变更前:250101 山东省济南市高新区天辰路1251号；变更后:250101 山东省济南市高新区天辰路1251号
2017-03-08

实用新型专利权授予

状态信息

授权

摘要

本实用新型提供一种光敏印章机曝光通用模板，包括通用模板座、固定模具、缓冲垫，通过将光敏印垫固定在固定模具中，并将固定模具定位连接在通用模板座上，实现光敏印垫与印章图案样稿的自动对正；缓冲垫均匀覆盖在矩形凹槽外侧通用模板座的底面上，且与感光玻璃相配合，实现感光玻璃的密封；通用模板座的自重实现光敏印垫的压缩。本实用新型提供的光敏印章机曝光通用模板，其自动对正的精度高，操作简单，提高了生产效率及生产质量，同时，可利用不同的固定模具实现光敏印垫的批量生产，节约人员成本。

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