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专利状态
钕铁硼永磁体表面真空镀铝方法
有效
专利申请进度
申请
2009-12-17
申请公布
2010-06-16
授权
2012-07-04
预估到期
2029-12-17
专利基础信息
申请号 CN200910260387.3 申请日 2009-12-17
申请公布号 CN101736304A 申请公布日 2010-06-16
授权公布号 CN101736304B 授权公告日 2012-07-04
分类号 C23C14/35;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/58
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 烟台正海磁性材料股份有限公司
申请人地址 山东省烟台市开发区珠江路22号
专利法律状态
  • 2012-07-04
    授权
    状态信息
    授权
  • 2010-10-13
    实质审查的生效
    状态信息
    实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20091217
  • 2010-06-16
    公布
    状态信息
    公开
摘要
一种钕铁硼永磁体表面真空镀铝方法,其中,依次包括如下步骤:(1)采用湿法抛光清洁钕铁硼永磁体表面;(2)将钕铁硼永磁体放入镀膜室中的旋转工件架上,使钕铁硼永磁体温度保持在250-300℃之间;(3)启动镀膜室上的真空泵,将镀膜室内的真空度调整为1-9×10-3帕;(4)同时启动镀膜室两侧的多弧阴极蒸发器、平面磁溅射靶和旋转工件架进行2-7小时的磁控多弧溅射;(5)维持镀膜室在真空下冷却30-60分钟后,充气开炉,取出镀铝的钕铁硼永磁体,进行无铬钝化液钝化。磁控溅射产生的高能量离子,撞击多弧法产生的低能离子,促使后者更多的离子化,两者速度趋向统一,效率提高。