一种足底穴位按摩结构的足浴器

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专利状态

一种足底穴位按摩结构的足浴器

有效

专利申请进度

申请

2018-02-26

授权

2019-04-05

预估到期

2028-02-26

专利基础信息

申请号	CN201820271230.5	申请日	2018-02-26
授权公布号	CN208693757U	授权公告日	2019-04-05
分类号	A61H35/00;A61H39/04
分类	医学或兽医学；卫生学;
申请人名称	上海泰昌健康科技股份有限公司
申请人地址	上海市奉贤区南奉公路669号

专利法律状态

2019-04-05

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型涉及一种足底穴位按摩结构的足浴器，包括主体，主体内设有两个按摩位，每个按摩位包括设置于主体上的凹槽、齿轮、按摩头和齿轮箱盖，凹槽内形成圆槽孔，齿轮安装于圆槽孔内，按摩头安装于齿轮上，按摩头上具有偏心设置的第一按摩凸起，齿轮箱盖盖于凹槽口，齿轮箱盖上开设有供按摩头穿过的孔。这样由动力源带动齿轮旋转，进而带动按摩头旋转，按摩头上偏心设置的按摩凸起可以对相应处的穴位周边进行按摩，齿轮和按摩头的大小和分布可以根据实际情况来设置，达到更大、更密的穴位覆盖范围；齿轮箱盖和脚趾对应处还都设有位置固定的按摩凸起，采用这种动静结合的结构，对足底穴位达到更好的按摩效果。

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