一种用于双面立式动平衡机的摆架结构

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专利状态

一种用于双面立式动平衡机的摆架结构

有效

专利申请进度

申请

2021-01-13

授权

2021-09-03

预估到期

2031-01-13

专利基础信息

申请号	CN202120080016.3	申请日	2021-01-13
授权公布号	CN214121499U	授权公告日	2021-09-03
分类号	G01M1/02;G01M1/16
分类	测量；测试;
申请人名称	杭州集智机电股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市西湖区三墩镇西园三路10号

专利法律状态

2021-09-03

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种用于双面立式动平衡机的摆架结构。包括设备基座、摆架、主轴安装座、主轴组件、静不平衡采集组件和偶不平衡采集组件；两个摆架左右对称地布置于设备基座上，设备基座的上面设有通孔，主轴安装座穿设在设备基座上面的通孔内，且主轴安装座通过两个摆架浮动安装在设备基座上，主轴组件安装在主轴安装座上，静不平衡采集组件和偶不平衡采集组件相互垂直的布置在主轴安装座的前后两侧。本实用新型针对摆架的振型分析设计合理的尺寸，从而得到更好的分离比，将多个条形板结构间隔一定距离设计为一整体，得到了较为合适的平动和扭转刚度，同时也避免了多个零件装配而引入误差，得到了较好的静偶分离效果。

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