一种材料反射特性测量装置

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专利状态

一种材料反射特性测量装置

失效

专利申请进度

申请

2013-07-26

授权

2013-12-11

预估到期

2023-07-26

专利基础信息

申请号	CN201320454517.9	申请日	2013-07-26
授权公布号	CN203337545U	授权公告日	2013-12-11
分类号	G01N21/55;G01N21/25
分类	测量；测试;
申请人名称	杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址	浙江省杭州市滨江区滨康路669号

专利法律状态

2023-08-25

专利权的终止

状态信息

专利权有效期届满；IPC(主分类):G01N 21/55；专利号:ZL2013204545179；申请日:20130726；授权公告日:20131211；终止日期:
2013-12-11

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种材料反射特性测量装置，包括中空激发源、监测装置和测量装置，中空激发源发出的光线照射到被测样品上，测量装置接收从被测样品反射出的穿过中空激发源空心部分的反射光线，监测装置监测中空激发源发出的光线的光谱信息，通过本实用新型公开的相应的测量方法，可以测量并计算得到被测样品全面的光谱反射特性。本实用新型设计巧妙、光路简单，无需光学暗室，即可实现材料回复反射的光度、色度和光谱特性的快速、准确测量，具有功能强大、测量准确度高、体积小、成本低、设计一体化等特点。

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