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专利状态
一种光谱仪
失效
专利申请进度
申请
2013-10-24
授权
2014-04-02
预估到期
2023-10-24
专利基础信息
申请号
CN201320659382.X
申请日
2013-10-24
授权公布号
CN203519165U
授权公告日
2014-04-02
分类号
G01J3/28
分类
测量;测试;
申请人名称
杭州远方光电信息股份有限公司
申请人地址
浙江省杭州市滨江区滨康路669号
专利法律状态
2023-11-10
专利权的终止
状态信息
专利权有效期届满;IPC(主分类):G01J3/28;专利号:ZL201320659382X;申请日:20131024;授权公告日:20140402;终止日期:
2014-04-02
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种光谱仪,包括入射狭缝、会集装置、光栅、聚焦成像装置和阵列探测器,所述入射狭缝设置在会集装置的焦点以外,入射光束经会集装置后会聚入射至光栅表面,光栅入射光和出射光均以会聚方式达到光学器件,不仅可减小光学器件的尺寸,而且可使光栅出射的零级光与一级衍射光更加有效分离,有效避免光栅出射的零级光直接入射聚焦成像装置,大幅降低杂散光;结合非球面光学反射镜式的会集装置和聚焦成像装置,还可整体提升光谱仪的成像质量和光学分辨率,具有设计巧妙、结构紧凑、杂散光低和测量准确度高等特点。
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