采用刻蚀工艺可局部擦除的书写膜、写字板、黑板及画板

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专利状态

采用刻蚀工艺可局部擦除的书写膜、写字板、黑板及画板

有效

专利申请进度

申请

2018-05-30

授权

2019-07-05

预估到期

2028-05-30

专利基础信息

申请号	CN201821906719.1	申请日	2018-05-30
授权公布号	CN209070267U	授权公告日	2019-07-05
分类号	G02F1/1333;G02F1/1343;G06F3/041
分类	光学;
申请人名称	山东蓝贝思特教装集团股份有限公司
申请人地址	山东省济南市历城区工业北路88号东都国际广场4号楼10层

专利法律状态

2019-07-05

授权

状态信息

授权

摘要

本实用新型公开了一种采用刻蚀工艺且可局部擦除的书写膜、写字板、黑板及画板，包括：依次排布的第一导电层、液晶层和第二导电层；采用刻蚀方法，将第一导电层和第二导电层分别分割成两个或两个以上相互绝缘的导电区域；第一导电层和第二导电层的导电区域在空间的重叠部分与该部分对应的液晶层区域共同形成擦除区域；本实用新型有益效果：能够实现对于书写内容的局部区域擦除，而其他区域则不受擦除影响，克服了传统技术只能实现全部擦除的不足，提高液晶书写膜及其应用设备的商业价值。

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