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专利状态
一种单层双稳态液晶临摹装置及方法
有效
专利申请进度
申请
2021-08-13
申请公布
2021-12-03
授权
2023-05-02
预估到期
2041-08-13
专利基础信息
申请号 CN202110931132.6 申请日 2021-08-13
申请公布号 CN113741077A 申请公布日 2021-12-03
授权公布号 CN113741077B 授权公告日 2023-05-02
分类号 G02F1/1333;G02F1/139;G02F1/133;G06F3/041
分类 光学;
申请人名称 山东蓝贝思特教装集团股份有限公司
申请人地址 山东省济南市历城区工业北路88号东都国际广场4号楼10层
专利法律状态
  • 2023-05-02
    授权
    状态信息
    授权
  • 2021-12-03
    公布
    状态信息
    公布
摘要
本发明属于液晶书写板结构技术领域,提供了一种单层双稳态液晶临摹装置及方法。其中,单层双稳态液晶临摹装置包括控制器以及依次设置的导电层、双稳态液晶层和TFT基底层,所述基底层上集成有TFT基板上阵列状排布若干像素单元;每一行像素单元对应的TFT由至少一根第一导线连接且供给控制电压;每一列像素单元对应的TFT由至少一根第二导线连接且供给输入电压;所述控制器被配置为:实时获取压力轨迹位置,通过控制输入给第一导线、第二导线及导电层的电压,使得双稳态液晶层始终保持设定图案。