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专利状态
一种单层双稳态液晶临摹装置及方法
有效
专利申请进度
申请
2021-08-13
申请公布
2021-12-03
授权
2023-05-02
预估到期
2041-08-13
专利基础信息
申请号
CN202110931132.6
申请日
2021-08-13
申请公布号
CN113741077A
申请公布日
2021-12-03
授权公布号
CN113741077B
授权公告日
2023-05-02
分类号
G02F1/1333;G02F1/139;G02F1/133;G06F3/041
分类
光学;
申请人名称
山东蓝贝思特教装集团股份有限公司
申请人地址
山东省济南市历城区工业北路88号东都国际广场4号楼10层
专利法律状态
2023-05-02
授权
状态信息
授权
2021-12-03
公布
状态信息
公布
摘要
本发明属于液晶书写板结构技术领域,提供了一种单层双稳态液晶临摹装置及方法。其中,单层双稳态液晶临摹装置包括控制器以及依次设置的导电层、双稳态液晶层和TFT基底层,所述基底层上集成有TFT基板上阵列状排布若干像素单元;每一行像素单元对应的TFT由至少一根第一导线连接且供给控制电压;每一列像素单元对应的TFT由至少一根第二导线连接且供给输入电压;所述控制器被配置为:实时获取压力轨迹位置,通过控制输入给第一导线、第二导线及导电层的电压,使得双稳态液晶层始终保持设定图案。
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