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专利状态
微桥结构以及微测辐射热计
有效
专利申请进度
申请
2016-06-29
授权
2017-01-11
预估到期
2026-06-29
专利基础信息
申请号
CN201620669579.5
申请日
2016-06-29
授权公布号
CN205873891U
授权公告日
2017-01-11
分类号
B81B3/00;G01J5/20
分类
微观结构技术〔7〕;
申请人名称
武汉高德红外股份有限公司
申请人地址
湖北省武汉市东湖开发区黄龙山南路6号
专利法律状态
2017-01-11
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型涉及辐射热计,提供一种微桥结构,包括衬底以及位于所述衬底上的桥腿层,所述桥腿层通过两根第一锚柱支撑于所述衬底上,还包括位于所述桥腿层正上方的桥面吸热层,所述桥面吸热层通过至少一根第二锚柱支撑于所述桥腿层上,所述桥面吸热层上开设有贯穿所述桥面吸热层的若干衍射窗口,各所述衍射窗口的尺寸小于光波的波长;还提供一种微测辐射热计,包括上述微桥结构。本实用新型的微桥结构中,桥腿层上设置有桥面吸热层,可以大大提高红外吸收率,且在桥面吸热层上还开设有若干衍射窗口,红外在各衍射窗口处产生衍射现象,进而可以缩短微桥结构对应的微测辐射热计的热响应时间。
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