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专利状态
一种三层复合式抗静电高性能光学扩散膜及其制备方法
有效
专利申请进度
申请
2011-01-30
申请公布
2011-06-15
授权
2012-09-26
预估到期
2031-01-30
专利基础信息
申请号
CN201110036491.1
申请日
2011-01-30
申请公布号
CN102096129A
申请公布日
2011-06-15
授权公布号
CN102096129B
授权公告日
2012-09-26
分类号
G02B5/02;G02B1/10;B32B27/18;B32B27/36;B29C47/06;B29C55/14
分类
光学;
申请人名称
宁波东旭成新材料科技有限公司
申请人地址
浙江省慈溪市逍林镇逍林大道工业区
专利法律状态
2013-07-31
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
状态信息
专利权人的姓名或者名称、地址的变更;IPC(主分类):G02B5/02;变更事项:专利权人;变更前:宁波东旭成化学有限公司;变更后:宁波东旭成新材料科技有限公司;变更事项:地址;变更前:315321 浙江省慈溪市逍林镇逍林大道296号;变更后:315321 浙江省慈溪市逍林镇逍林大道工业区
2012-09-26
授权
状态信息
授权
2011-08-10
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/02申请日:20110130
2011-06-15
公布
状态信息
公布
摘要
一种三层复合式抗静电高性能光学扩散膜,包括芯层和扩散层,还包括抗静电层,抗静电层的材料为芳香族饱和聚酯和抗静电剂的混合物。上述三层复合式抗静电高性能光学扩散膜的方法,包括下列步骤:A.共混造粒制备扩散层母料;B.共混造粒制备抗静电层母料;C.将物料熔融塑化;D.挤出成型;E.流延铸片;F.纵向拉伸,之后再进行横向拉伸。本发明的有益效果在于:1.其下表层是抗静电层,这样可以防止在背光模块加工过程中由静电带来的粉尘危害;简化了原本需购入化学基材,再以溶剂涂布或者紫外光交联来将扩散粒子结合于基材之上的作法,一举在原材料基材的制作过程中,以共挤出的方式将扩散粒子及抗静电层混掺于芯层表面之上下。
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