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专利状态
一种镜片双轴单面研磨抛光一体机
有效
专利申请进度
申请
2012-08-17
申请公布
2012-11-21
授权
2014-09-24
预估到期
2032-08-17
专利基础信息
申请号
CN201210292679.7
申请日
2012-08-17
申请公布号
CN102785142A
申请公布日
2012-11-21
授权公布号
CN102785142B
授权公告日
2014-09-24
分类号
B24B13/00
分类
磨削;抛光;
申请人名称
湖南为百科技有限责任公司
申请人地址
湖南省洞口县高沙镇双合村
专利法律状态
2014-09-24
授权
状态信息
授权
2013-01-16
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效IPC(主分类):B24B 13/00申请日:20120817
2012-11-21
公布
状态信息
公开
摘要
一种镜片双轴单面研磨抛光一体机,包括机架、主轴旋转机构、真空连接机构、偏心真空吸盘机构、右自动升降机构、左自动升降机构、右万向磨盘机构、左万向磨盘机构、传动机构和电气控制箱;所述真空连接机构、偏心真空吸盘机构分别与主轴旋转机构相连;所述右自动升降机构、左自动升降机构固定在机架上,所述右万向磨盘机构装在右自动升降机构中,所述左万向磨盘机构装在左自动升降机构中;所述传动机构固定在机架上,所述传动机构分别与右万向磨盘机构、左万向磨盘机构相连;所述电气控制箱分别与主轴旋转机构、右自动升降机构、左自动升降机构、传动机构相连。本发明生产效率高,产品质量高,生产成本低,产量高,劳动强度低,适于工业化生产。
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