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专利状态
一种三级磁控溅射镀膜装置
有效
专利申请进度
申请
2014-12-22
授权
2015-06-03
预估到期
2024-12-22
专利基础信息
申请号 CN201420826210.1 申请日 2014-12-22
授权公布号 CN204369976U 授权公告日 2015-06-03
分类号 C23C14/35;C23C14/56
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 深圳市拓日新能源科技股份有限公司
申请人地址 陕西省渭南市开发区新盛路阳光大厦五楼
专利法律状态
  • 2015-06-03
    授权
    状态信息
    授权
摘要
为解决上述现有技术缺陷,本实用新型的目的在于提供一种三级磁控溅射镀膜装置,本设备采用三级镀膜室,并在各镀膜室前段和后端以及各镀膜室相连段均设置有压力泵阀,调节不同的镀膜压力,使得镀膜均匀,镀膜效果显著。一种三级磁控溅射镀膜装置,包括,箱体以及设置在箱体上的观察窗,其特征在于,所述箱体由一级镀膜室、二级镀膜室和三级镀膜室组成,各镀膜室前段和后端以及中间连接段均设置有压力泵阀。